Nanometrologia stanowi fundament nowoczesnej produkcji i odgrywa kluczową rolę w precyzyjnych pomiarach oraz analizie materiałów w skali mikro- i nanometrycznej. Artykuł przedstawia wkład nanometrologii w rozwój zaawansowanych technologii produkcji, ze szczególnym uwzględnieniem kontroli jakości różnorodnych konstrukcji materiałowych oraz ich procesów hybrydyzacji. Nanometrologia ma swój wpływ także na rozwój technologii Internetu Rzeczy (IoT), zapewniając precyzyjną kontrolę procesów wytwarzania zminiaturyzowanych urządzeń. Wdrażanie rozwiązań nanometrologicznych pozwala też ograniczyć wpływ zniekształceń pomiarowych, szumów oraz opisać występujące odchylenia wymiarów. W pracy przedstawiono różnorodne metody nanometrologiczne np. metody skaningowe, sensoryczne i inne techniki pomiarowe, dostarczające cennych informacji o wymiarach, architekturze, składzie i właściwościach urządzeń w mikro- i nanoskali w kontekście rozwoju tranzystorów polowych (FET), w tym złączowych (JFET) czy z izolowaną bramką (IGFET), tranzystorów metal–tlenek–półprzewodnik z kanałem typu n i p (n/p-MOSFET) oraz metal–izolator–półprzewodnik (MISFET), komplementarnych par tranzystorów MOS (CMOSFET), czy mikro- i nano-elektromechanicznych systemów magnetoelektrycznych (ME M/NEMS). W tym kontekście, nanometrologia ma szansę zrewolucjonizować zaawansowaną produkcję zminiaturyzowanych urządzeń, zapewniając ich jakość i w efekcie wprowadzając przemysł na poziom niespotykanej dotąd precyzji, powtarzalności i wydajności. Dzięki temu, możliwa będzie komunikacja IoT w bardzo niskim zakresie częstotliwości (VLF), przy minimalnym zużyciu energii, niskich stratach mocy, a co najważniejsze - wielofunkcyjności i uniwersalności projektowanych urządzeń.